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RIE-200H 平板式反应离子刻蚀系统
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RIE-200E 平板式反应离子刻蚀系统
平板式反应离子刻蚀设备
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RIE-200C 平板式反应离子刻蚀系统
平板式反应离子刻蚀设备
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<p>机台特点</p><p>整机Footprint：920mm×500mm</p><p>8寸向下兼容</p><p>工艺菜单化，支持一键运行</p><p>气动角度式开盖，人机界面角度可调</p><p>模块化布局，便于升级扩展和维护</p><p>标配内衬，工艺稳定性好</p><p>精准工艺压力控制</p><p>高精度控温样品台</p><p><br/></p>
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