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RIE-200N 平板式反应离子刻蚀系统

平板式反应离子刻蚀设备

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<p><span style="text-wrap-mode: nowrap;"><br/></span></p><p><span style="text-wrap-mode: nowrap;">RIE-200N 作为北京中科聚微半导体设备有限公司开发的一款紧凑型干法刻</span></p><p><span style="text-wrap-mode: nowrap;">蚀机台，可以对 Si、Poly-Si、SiO2、Si3N4 等硅基材料以及 SiC、GaAs、InP 等化</span></p><p><span style="text-wrap-mode: nowrap;">合物半导体材料进行刻蚀，具有刻蚀形貌好、选择比高的良好效果，同时 RIE-200N</span></p><p><span style="text-wrap-mode: nowrap;">软件控制基于 Linux 系统自主开发，具有工艺菜单管理、工艺参数存储、日志查</span></p><p><span style="text-wrap-mode: nowrap;">询、异常诊断和处理、一键运行等功能，是一款高可靠性和高效率的刻蚀机台。</span></p><p><br/></p>
RIE-200H 平板式反应离子刻蚀系统

平板式反应离子刻蚀设备

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RIE-200E 平板式反应离子刻蚀系统

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