RIE-200H 平板式反应离子刻蚀系统
    发布时间: 2025-03-14 17:27    
RIE-200H  平板式反应离子刻蚀系统


机台特点

· 整机Footprint:920mm×740mm

· 8寸向下兼容

· 工艺菜单化,支持一键运行

· 气动旋转开盖,人机界面角度可调

· 模块化布局,便于升级扩展和维护

· 标配内衬,工艺稳定性好

· 精准工艺压力控制

· 控温样品台,精度±0.1℃


序号

项目类型

机台型号:RIE-200Hxxx1

1

抽气方式

正下方,完全对称

2

样片尺寸

8寸

3

RF功率源

0~300W/500W/600W,自动匹配,反射功率≤3w

4

分子泵

抽速≥ 500L/s

5

前级泵

干泵≥ 10L/s

6

工艺调压

0~1Torr (自动控压为选配)

7

真空测量

电容薄膜真空计,压力开关(进口Inficon)

8

气体种类

O2  Ar  SF6  CF4  CHF3(标配3路+1路调压)

9

气体量程

0~100/200/300sccm(进口Horiba,金属密封,数字通讯)

10

样片控温

冷循环水(10°C ~室温)

11

控制系统

自主研发,扁平化界面设计,自动化流程

带菜单,支持多步工艺,支持一键运行

日志与数据记录,异常报警与自动处理机制,三级管理权限

12

交互界面

进口ELO 15寸电容触摸屏,角度可调

13

工艺腔内衬

14

特色设计

两级匀流环结构,样品防丢

15

开盖方式

气动旋转式开盖

16

数据导出

USB3.0数据导出接口

17

蚀刻材料

硅基材料:Si  Poly-Si  SiNx  SiO2  SiC

有机材料:Polymer  PR  SU8  PMMA

炭基材料:金刚石,类金刚石,石墨烯