PCD-150A作为北京中科聚微半导体设备有限公司开发的一款桌面型反应离子刻蚀机，应用场景：去除光刻胶残胶等、清洗半导体元件、清洗生物芯片、微流控芯片、清洗沉积凝胶的基片、高分子材料表面修饰、改善粘接光学元件、光纤等所用胶水的粘和力、硅基材料的图形化刻蚀。同时PCD-150A软件控制自主开发，具有工艺菜单管理、工艺参数存储、日志查询、异常诊断和自动安全处理、一键运行等功能，是一款使用便捷的反应离子刻蚀机台。

设备特点：

u 整机尺寸520mm（W）×515mm（D）×430mm（H）

u 10寸触摸屏操作（进口ELO电容触摸屏）

u 射频电源功率范围5w~300w

u 扣手式面板设计，方便维护与升级

u 6寸样品台，工艺性能稳定，片内片间均匀性±5%

u 菜单化工艺，可支持200条以上工艺菜单

u 自主开发的全自动控制系统，支持一键运行操作

适用工艺：