1

样片尺寸

150mm向下兼容（单片）

2

离子源类型

考夫曼离子源

射频离子源

射频离子源

3

中和方式

灯丝

射频中和器

射频中和器

4

分子泵

≥1200L/s

≥1600L/s

≥2000L/s

5

前级泵

机械泵/干泵

机械泵/干泵

干泵

6

极限真空

4.0E-5Pa

7

真空腔体

不锈钢内抛光外白色油漆

8

气体种类

He/O2//Ar/N2

9

气体量程

0~5sccm/50sccm

10

Load-Lock

无

无

有

11

样片控温

5°C ~室温

-10°C ~室温

-30°C~室温

12

工作台姿态调整

自转速度0~50RPM/角度调整0~90°

13

背氦冷却

无/有

有

14

刻蚀速率

10nm~200nm/min（不同材质有差异）

15

刻蚀均匀性

±3%@4寸片内，±5%@4寸片间

16

终点检测

可选配质谱仪

17

控制系统

全自动，菜单化设计，支持一键运行

18

账号管理

3级管理权限（设备工程师、工艺工程师、操作工程师）

19

交互界面

电容触摸屏

20

蚀刻材料

硅基材料：Si/SiO2/石英/SiNx/SiC……

III-V材料：InP/GaAs/GaN……

磁性材料/合金材料/陶瓷材料：Fe/TaN……

金属材料：Ta/Ni/Cr/Al/Cu/Au……