机台特点
· 整机Footprint:1350mm×740mm
· 工艺运行带自动控压
· 下电极三针结构,带背氦
· 标配内衬,工艺稳定性好
· 支持托盘结构或8寸裸片
· Load-Lock双腔体结构
· 工艺菜单化,自动运行
· 下电极高低温控制,精度±0.1℃
序号 | 配置项目 | ICP-200LLE | ICP-200LLS | ICP-200LLD |
1 | 样片尺寸 | 8英寸向下兼容 | ||
2 | SRF源 | 0~1000W/2000W/3000W自动匹配 13.56MHz | ||
3 | BRF源 | 0~300W/500W自动匹配 13.56MHz | ||
4 | 分子泵 | 1200 L/s /1600L/s/定制 | ||
5 | 前级泵 | 机械油泵 | 干泵 | 干泵 |
6 | 预抽泵 | 机械油泵 | 干泵 | 干泵 |
7 | 工艺控压 | 不控压/0~1Torr控压 | 0~1Torr控压 | 0~1Torr控压 |
8 | 气体种类 | He/CH4/O2/N2/Ar/SF6/ CF4/CHF3 | He/CH4/O2/N2/Ar/SF6/CF4/ CHF3/Cl2/BCl3/HBr | He/CF4/SF6/O2/CHF3/ C4F8/Ar/N2 |
9 | 气体量程 | 0~50sccm/100sccm/200sccm/300sccm/定制 | ||
10 | Load-Lock | 有 | 有 | 有 |
11 | 样片控温 | 10°C ~室温 | -30°C~200°C/定制 | -30°C~室温/定制 |
12 | 背氦冷却 | 无/有 | 有 | |
13 | 工艺内衬 | 有内衬 | ||
14 | 控制系统 | 扁平化界面设计,带工艺菜单,支持多步工艺,数据记录,异常报警,三级管理权限 | ||
15 | 交互界面 | 进口ELO 15寸电容触摸屏,角度可调 | ||
16 | 蚀刻材料 | 硅基材料: Si/Poly-Si/SiNx/SiO2/SiC 有机材料: Polymer/PR/SU8/PMMA 炭基材料: 金刚石/类金刚石/石墨烯 | 硅基材料: Si/ Poly-Si/SiO2/SiNx/SiC 有机材料: Polymer/PR/SU8/PMMA 炭基材料: 金刚石/类金刚石/石墨烯 III-V材料:InP/GaAs/GaN 磁性材料/合金材料/金属材料:Ni/Cr/Al/Cu/Au | 深硅蚀刻 |