ALD-200T 热型原子层薄膜沉积系统
    发布时间: 2025-06-25 19:54    
ALD-200T  热型原子层薄膜沉积系统



机台特点

· 主机尺寸:700mm×640mm

· 8寸向下兼容

· 工艺菜单化,支持多步工艺

· 人机界面角度可调

· 模块化布局,便于升级扩展和维护

· 工艺稳定性好

· 精准工艺压力控制

· 高精度控温样品