JWCAS-PVD50 磁控溅射仪
    发布时间: 2025-06-24 13:20    
JWCAS-PVD50  磁控溅射仪

JWCAS-PVD50磁控溅射仪是一款完全自主研发的小型镀膜系统,整体结构紧凑,外形尺寸小型化设计,可以放置在实验桌或可移动机架上(可选配),也可以放在手套箱内。该系统配置2套2寸磁控靶枪,控制系统采用工控机和ELO触摸屏,带有工艺菜单,支持一键运行(从放样到工艺结束自动执行)。该系统采用独特的自研靶枪结构,可适用于多种镀膜靶材,如:铜、钛、铬、锆、不锈钢、镍等磁性或非磁性金属靶材,也适用于氮化物、氧化物等类型靶材。下电极具有旋转、加热、升降等功能,膜层的附着力、重复性、致密度、均匀性优异。