RIE-200C 平板式反应离子刻蚀系统
    发布时间: 2025-03-14 17:06    

机台特点

整机Footprint:920mm×500mm

8寸向下兼容

工艺菜单化,支持一键运行

气动角度式开盖,人机界面角度可调

模块化布局,便于升级扩展和维护

标配内衬,工艺稳定性好

精准工艺压力控制

高精度控温样品台


RIE-200C  平板式反应离子刻蚀系统

机台特点

· 整机Footprint:920mm×500mm

· 8寸可向下兼容

· 工艺菜单化,支持一键运行

· 气动开盖,人机界面角度可调

· 模块化布局,便于升级扩展和维护

· 标配内衬,工艺稳定性好

· 自动蝶阀工艺压力控制

· 控温样品台,精度±0.1℃


序号

机台型号

RIE-200C( 对标SAMCO RIE-10NR )

1

抽气方式

正下方,完全对称

2

工艺腔体

铝材质,表面硬质氧化处理

3

电极尺寸

电极尺寸≥240mm

4

样片尺寸

支持8寸整片及以下尺寸样品

5

RF功率源

13.56MHz,5~300W,自动匹配,反射功率≤3w

6

涡轮分子泵

抽速≥ 300L/s

7

前级干泵

抽速≥ 600L/min

8

极限真空

本底真空<3×10-4 Pa

9

工艺调压

0~2Torr,蝶阀自动控压

10

真空测量

电容薄膜真空计,压力开关(进口Inficon)

11

气体种类

O2  Ar  SF6  CF4  CHF3  N2

12

气体量程

0~300sccm(进口Horiba,金属密封,数字通讯)

13

样片控温

冷循环水(10°C ~室温),精度±0.1℃

14

控制系统

自主研发,扁平化界面设计,自动化流程

带菜单,支持多步工艺,支持一键运行

日志与数据记录,异常报警与自动处理机制,三级管理权限

15

交互界面

进口ELO 15寸电容触摸屏,带固定臂,角度可调

16

特色设计

样品防丢

17

开盖方式

气动开盖

18

数据导出

USB3.0数据导出接口

19

蚀刻材料

硅基材料:Si  Poly-Si  SiNx  SiO2  SiC

有机材料:Polymer  PR  SU8  PMMA

炭基材料:金刚石,类金刚石,石墨烯